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在技術(shù)與結(jié)構(gòu)設計上，Hydrogen - 500（S）氣相色譜專用氫氣發(fā)生器采用 SPE 固態(tài)電解質(zhì)技術(shù)，無需使用堿，直接電解純水，這種創(chuàng)新設計對色譜柱起到了有效的保護作用。

HYDROGEN-2L/3L氣相色譜專用氫氣發(fā)生器是一種能夠連續(xù)可靠地產(chǎn)生高純度氫氣的設備，其純度可達到99.9999%以上。相比昂貴的高壓氫氣鋼瓶，該設備具有更高的安全性和經(jīng)濟性，不再需要更換鋼瓶，從而避免了中斷重要分析工作的情況。

HYDROGEN/5L/10L/17L氫氣發(fā)生器是由超純水機制取二級水，并儲存至水箱備用的設備。當氫氣發(fā)生器缺水時，它會自動供給水。此外，多臺氫氣發(fā)生器還可以串聯(lián)使用，通過串聯(lián)控制線由一臺發(fā)生器控制其他發(fā)生器，實現(xiàn)產(chǎn)氣均勻分配。

在控制方面，該氫氣發(fā)生器展現(xiàn)出高度的智能化。儀器的全部工作過程均由程序精確控制，能夠自動實現(xiàn)恒壓、恒流功能。更為出色的是，通過串聯(lián)控制線，它可輕松實現(xiàn)多組并聯(lián)使用，極大地拓展了設備的使用靈活性和應用范圍，滿足不同規(guī)模的生產(chǎn)或?qū)嶒炐枨蟆?/p>

功能方面，高壓氫氣發(fā)生器具有自動水位控制功能，當缺水狀態(tài)時，自動停機，自動補水功能，水量低于15%時，由外置水箱自動補水，無需停機加水。有效保護電解池，延長使用壽命。

CVD（Chemical Vapor Deposition）和MOCVD（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition）是兩種常用的化學氣相沉積技術(shù)，用于制備薄膜、涂層和納米材料等。